体系定位：本课程是图形图像开发能力的“核心引擎”，面向具备线性代数与编程基础的图形学入门开发者、游戏引擎工程师、渲染算法研究员及三维可视化工程师。课程完整覆盖从基础算法→渲染管线→光照模型→纹理映射→光线追踪→可微渲染的演进路径，帮助学员建立从传统图形学到现代实时渲染与神经渲染的完整知识图谱。学员可根据自身技术方向与职业目标，自主选修任一专题，各专题独立成章，共同构成渲染技术能力的完整进阶阶梯。
培训目标：帮助学员深入理解计算机如何将几何描述转化为屏幕像素的根本原理，掌握扫描转换、裁剪、消隐等经典图形学算法的数学本质与工程实现，建立扎实的光栅化图形学思维。
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模块 |
主要培训内容 |
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扫描转换与光栅化 |
直线生成算法（DDA/Bresenham）、圆/椭圆生成算法、三角形光栅化、重心坐标与插值、亚像素精度处理 |
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多边形填充 |
扫描线多边形填充算法、边缘填充算法、种子填充算法、奇偶规则与非零环绕数、抗锯齿基础 |
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裁剪算法 |
Cohen-Sutherland线段裁剪、Liang-Barsky参数化裁剪、Sutherland-Hodgman多边形裁剪、Weiler-Atherton裁剪、齐次裁剪空间 |
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消隐算法 |
画家算法与深度排序、Z-Buffer算法原理与变种、Warnock区域细分算法、背面剔除、遮挡剔除 |
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抗锯齿技术 |
超级采样抗锯齿、多重采样抗锯齿、时间抗锯齿、快速近似抗锯齿、形态抗锯齿 |
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工程实践 |
软件光栅化器实现、深度缓冲区内存布局、亚像素精度与几何走样规避 |
前置要求：线性代数、C/C++编程基础
培训目标：使学员彻底打通从三维模型到二维屏幕的完整变换链路，理解齐次坐标、各类变换矩阵的推导本质以及坐标系在不同图形API中的差异，具备独立构建相机系统与空间变换工具链的能力。
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模块 |
主要培训内容 |
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齐次坐标与仿射变换 |
齐次坐标的几何意义、平移/旋转/缩放/剪切矩阵统一表示、变换复合与矩阵顺序、逆变换与正交性 |
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视图变换 |
相机模型参数化、LookAt矩阵推导、右手系与左手系转换、视图空间几何意义 |
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投影变换 |
透视投影矩阵完整推导、视锥体参数与视场角、正交投影矩阵推导、深度映射非线性特性 |
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视口变换 |
NDC空间定义、视口矩形映射、深度范围映射、像素中心对齐约定 |
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坐标空间体系 |
模型空间、世界空间、观察空间、裁剪空间、NDC空间、屏幕空间的逐级变换与逆变换 |
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空间变换工程实践 |
矩阵栈与变换层次、场景图设计、射线与空间变换、拾取算法实现 |
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多API适配 |
OpenGL与DirectX坐标系差异、NDC深度范围差异、纹理坐标原点约定 |
前置要求：专题一或具备同等图形学基础
培训目标：使学员系统掌握从局部光照到全局光照、从经验模型到物理基础渲染的完整演化脉络，理解光与材质交互的数学描述，具备独立实现各类着色器与材质系统的能力。
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模块 |
主要培训内容 |
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局部光照模型 |
环境光/漫反射/镜面反射分解、Phong模型与Blinn-Phong改进、Gouraud着色与Phong着色对比、光照计算与法向量插值 |
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辐射度量学基础 |
辐射通量/辐照度/辐射强度/辐射率、立体角、BRDF定义与性质、能量守恒与互易性 |
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基于物理的着色 |
微平面理论、法线分布函数、几何遮蔽函数、菲涅尔方程、Cook-Torrance BRDF模型 |
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材质系统 |
绝缘体与导体差异、金属材质、粗糙度/金属度工作流、清漆涂层、各向异性材质 |
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全局光照基础 |
直接光照与间接光照、路径积分形式、渲染方程、蒙特卡洛积分思想 |
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环境光遮蔽 |
环境光遮蔽的物理意义、屏幕空间环境光遮蔽、光线追踪环境光遮蔽、烘焙环境光遮蔽 |
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着色器编程模型 |
顶点/片元着色器职责、统一变量与属性、着色器变体与预编译 |
前置要求：专题二、高等数学、概率论基础
培训目标：使学员深入理解纹理作为图形学“万能映射函数”的本质，掌握从传统颜色纹理到现代几何/光照/位移贴图的完整技术栈，具备独立实现复杂纹理采样与生成算法的能力。
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模块 |
主要培训内容 |
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纹理映射基础 |
UV映射原理、纹理坐标生成、纹理采样与过滤、纹理环绕模式、纹理压缩格式 |
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三步纹理映射 |
颜色纹理、凹凸纹理、法线贴图的原理与实现、切线空间计算、法线贴图压缩 |
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高级贴图技术 |
位移贴图与真实几何偏移、视差映射、浮雕映射、贴图流映射、材�|融合与遮罩 |
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环境映射 |
立方体贴图、球面环境映射、双抛物面映射、辐射度环境映射、实时反射/折射 |
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纹理生成 |
程序化噪声、体纹理、动态纹理更新、渲染到纹理、虚拟纹理 |
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纹理采样优化 |
各向异性过滤、纹理流送、纹理图集、稀疏纹理、纹理压缩与解码 |
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PBR材质贴图工作流 |
基础色贴图、法线贴图、粗糙度/金属度贴图、环境光遮蔽贴图、高度贴图 |
前置要求：专题三或具备同等光照着色基础
培训目标：使学员系统掌握光线追踪渲染范式的核心算法与工程架构，理解从离线光线追踪到实时光线追踪的演进路径与优化策略，具备独立实现路径追踪器与实时光追混合渲染的能力。
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模块 |
主要培训内容 |
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光线追踪基础 |
光线参数化表示、光线与基本体求交（球/三角形/AABB）、光线与层次包围盒求交、光线与场景求交调度 |
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加速结构 |
包围盒层次结构构建与遍历、均匀网格、KD树、空间分割与物体分割权衡 |
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递归光线追踪 |
镜面反射/折射、Whitted风格光线追踪、阴影光线、递归终止条件 |
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路径追踪 |
蒙特卡洛积分、直接光照采样、间接光照递归、俄罗斯轮盘赌、多重重要性采样 |
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高级全局光照 |
光子映射、双向路径追踪、梅特罗波利斯光照传输、辐照度缓存 |
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实时光线追踪 |
光线追踪管线架构、光线生成/相交/命中着色器、硬件加速遍历、混合渲染管线 |
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降噪技术 |
空间域降噪、时间域累加、特征缓冲辅助、深度学习降噪 |
前置要求：专题三、概率论与数理统计、数据结构基础
培训目标：使学员掌握图形学与深度学习交叉领域的前沿技术，理解可微渲染如何将渲染过程转化为可优化链路，具备实现逆向渲染、神经辐射场等现代三维视觉算法的数学基础与工程能力。
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模块 |
主要培训内容 |
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可微渲染基础 |
渲染过程可微化动机、前向传播与梯度计算、像素级损失函数、边缘采样与连续性近似 |
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可微光栅化 |
光栅化过程的不可微障碍、软光栅化策略、概率光栅化、梯度近似传递 |
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可微光线追踪 |
光线与表面求交的可微性、边导数计算、体积渲染可微化、可微材质参数优化 |
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逆渲染 |
从图像反推几何/材质/光照、分析微分与自动微分、联合优化策略 |
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神经辐射场 |
体积密度与颜色场、位置编码、体渲染离散化、神经辐射场与神经辐射场变体 |
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神经渲染前沿 |
3D高斯泼溅、即时神经图形基元、神经点云、符号距离场神经表示 |
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可微渲染工程框架 |
自动微分框架集成、计算图构建、梯度检查、显存优化策略 |
前置要求：专题五、机器学习/深度学习基础、自动微分框架使用经验
培训目标：使学员掌握现代图形API的统一设计哲学与渲染管线全流程编程能力，理解可编程着色器、计算着色器、资源管理等核心工程实践，具备独立构建完整渲染器基础设施的能力。
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模块 |
主要培训内容 |
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现代图形API架构 |
硬件抽象层设计、对象模型（设备/交换链/命令缓冲/描述符）、多线程渲染架构 |
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渲染管线全流程 |
输入装配、顶点着色器、曲面细分阶段、几何着色器、光栅化、片元着色器、输出合并 |
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着色器编程 |
着色器语言核心语法、内置变量与函数、着色器编译与反射、着色器变体管理 |
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高级着色器阶段 |
几何着色器与图元扩展、曲面细分控制/评估着色器、计算着色器与通用计算 |
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资源管理 |
缓冲对象（顶点/索引/常量）、纹理对象与采样器、描述符与描述符集布局、资源状态转换 |
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渲染技术实现 |
延迟渲染管线、前向+渲染、基于物理的渲染实现、后处理特效链 |
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性能优化 |
绘制调用合并、资源屏障优化、显存带宽控制、多线程命令记录 |
前置要求：专题一、专题二，具备C++工程实践能力
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学员角色 |
建议选修专题 |
学习目标 |
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图形学入门开发者 |
专题一 + 专题二 + 专题七（基础） |
建立光栅化图形学认知，掌握渲染管线基本编程 |
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游戏引擎/实时渲染工程师 |
专题三 + 专题四 + 专题七 |
精通PBR材质与纹理映射，具备引擎渲染模块开发能力 |
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光线追踪/全局光照工程师 |
专题五 + 专题三 |
掌握路径追踪与实时光追核心算法 |
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三维视觉/人工智能图形学研究员 |
专题六 + 专题五 |
掌握可微渲染与神经渲染前沿技术栈 |
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工具链/基础设施工程师 |
专题七 + 专题二 |
构建高性能渲染基础设施，提供图形API抽象层 |
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渲染算法全栈工程师 |
全七专题 |
建立从光栅化到光线追踪、从离线到实时的完整渲染知识体系 |
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高校学生/科研入门 |
专题三 + 专题五 + 专题六 |
衔接经典图形学与前沿研究，培养学术文献理解能力 |
